電暈處理機增添了新功能嗎？

出了電暈處理站，該處理站為需要單個單元需要高電暈功率的基板和應(yīng)用而設(shè)計。顧名思義，新裝置配備了八個高功率的陶瓷電暈，可以從適用于現(xiàn)代材料的緊湊型模塊化系統(tǒng)中釋放多的功率。

C8旨在腐蝕，并具有所謂的“維護友好功能，可將其放置在下一代表面處理中”。增加了“轉(zhuǎn)換器”對簡單電暈處理機的需求。'我們?yōu)樵絹碓蕉嗟目量虘?yīng)用設(shè)計了新的C8。許多新基板的為復(fù)雜，因此需要高功率的電暈處理機才能達到達因水平。C8在適于運行這些具有材料的現(xiàn)代印刷機上，每平方米可提供多的電暈功率。

單元中有八個電暈，這意味著C8可以在高運行速度下施功率電暈。該設(shè)備的幅寬范圍為362至572mm，能夠以過300m / min的速度進行處理。

隨著電暈劑量的增加，電暈基團的數(shù)目也因此增加，因此潤濕性也增加。潤濕性的一種測量方法是表面張力，它可以用測試油墨而地在諸如箔片的光滑表面上。