電壓：施加到設(shè)備的電壓上，電壓上升，處理效能大，但結(jié)果不是線性的，因此當(dāng)處理電壓上升到定值時(shí)，處理效能不好。因?yàn)殡姇炋幚黼妷号c膜厚成正比，所以膜產(chǎn)品越高，要求的處理電壓就越高。通常用于薄膜，處理電壓范圍在10000-20000V之間。輸入電暈處理器的交流電源應(yīng)穩(wěn)定，否則輸出高頻電壓會(huì)波動(dòng)，從而在膠卷處理結(jié)果上產(chǎn)生良好的時(shí)差。對(duì)于電源波動(dòng)較大的制造商，應(yīng)采用交流穩(wěn)壓器以保電壓穩(wěn)定性。

       輸出功率：處理能力隨電暈處理速度，膠片類型，使用經(jīng)驗(yàn)和電暈寬度的不同而變化。目前，常用的電暈處理的輸出功率范圍為2-70kW，如果加工速度高了，加工功率也應(yīng)高了；同樣，如果膜的寬度增加，則處理能力也應(yīng)增加。功率冷膜處理至少比膜大。以上也可用作選擇電暈處理器尺寸的基礎(chǔ)?？梢詫⑻幚碓O(shè)備視為具有損耗介質(zhì)的電容器。當(dāng)輸入功率的頻率增加時(shí)，電流增加，功率增加，反之亦然。電暈處理器通常通過調(diào)節(jié)電源頻率來改電源頻率。電暈放電處理器的調(diào)頻范圍：10-25kHz。

       電極間隙：電極間隙是指兩個(gè)電端之間的間距，即放電頭與接地電端之間的距離。它對(duì)處理程度有兩個(gè)影響，一方面是間隙的增加，電暈處理廣，薄膜在電暈處理中的停留時(shí)間相對(duì)較長，改變了處理結(jié)果；但另一方面，能量分散到大的空間，治的強(qiáng)度下降，治的結(jié)果變差。