對于電源波動(dòng)較大的制造商，應(yīng)采用交流穩(wěn)壓器以讓電壓穩(wěn)定。電暈處理器的輸出功率：處理能力隨電暈處理的速度，膠片的類型，經(jīng)驗(yàn)和電暈的寬度而變化。目前，電暈處理的輸出功率范圍常用2-70kW，如果處理速度增加1倍，處理能力也應(yīng)增加1倍; 同樣，如果薄膜的寬度增加1倍，處理能力也應(yīng)增加1倍; 功率冷膜處理至少比薄膜大1倍。以上也可以作為選擇電暈處理器尺寸的依據(jù)。處理裝置可視為具有損耗介質(zhì)的電容器。當(dāng)輸入功率的頻率升高時(shí)，電流增加，功率增加，反之亦然。電暈處理器通常通過調(diào)節(jié)電源頻率來改變電源頻率。電暈放電處理器的頻率調(diào)節(jié)范圍：10-25kHz。電極間隙：停留時(shí)間相對較長，電暈處理機(jī)增加了處理成效; 但另一方面，能量分散到比較大的空間，強(qiáng)度下降，兩種成效只在適當(dāng)時(shí)，電極間隙，只有強(qiáng)度。電極間隙通?？刂圃?-2mm。另外，將單個(gè)頭電極改變?yōu)殚L頭（例如6頭）電極，并且在相同的處理?xiàng)l件下，也可以處理程度。由于不同種類的薄膜，加工形式和加工后的時(shí)間，加工要求也不同。