因此泛用作測量通過電暈處理實(shí)現(xiàn)的表面改性水平的單元。（參見“如何測量處理效?！保┰陔姇炋幚碇?，潤濕張力原則上與輸入功率的比例發(fā)生變化（上升或上升到飽和點(diǎn)）。因此，使用瓦特密。這樣，當(dāng)使用電暈處理器時(shí)，重要的是要知道獲得所需潤濕張力所需的瓦特密度水平。（所需的潤濕張力根據(jù)目的而變化 - 例如涂層，印刷或粘貼在一起 - 以及涂層材料，如粘合劑。*）在試樣表面上涂抹試劑，等待兩秒鐘?？磧擅腌姾笠耗な欠衿屏?。

在待的固品表面上施加任意，并濕潤的角度，該角度將是。許多用戶也將其用于測試鋁鍍膜電暈處理機(jī)表面處理的潤濕性，作為與使用測試試劑不同的方法。電暈處理器通常在氣壓下發(fā)生電暈放電，這導(dǎo)致在處理站中產(chǎn)生。這些物質(zhì)對體有害，并且對電暈處理器周圍的機(jī)器也有腐蝕等有害影響。

因此，需要采取措施止臭氧和從處理站泄漏。常見的處理站具有排氣管入口，站內(nèi)的空氣通過入口排出。安裝用于排出臭氧的管道和排氣鼓風(fēng)機(jī)允許該站將臭氧和排放到建筑物外部。排氣鼓風(fēng)機(jī)部在運(yùn)行過程中也會變得酸性很強(qiáng)，因此建議使用內(nèi)表面的酸涂層或使用不銹鋼鼓風(fēng)機(jī)。